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  • PlasmaStar 200/200 RIE等离子刻蚀机
    PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。腔室材料是硬质阳极氧化铝,有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于最小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。

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