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NXQ8000系列掩膜曝光机的电气控制系统是怎么样的

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详细介绍
   NXQ8000系列掩膜曝光机的电气控制系统是怎么样的
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,同时可根据用户需求提供385nm,395nm和405nm紫外光源,适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机采用了领先的LED光源技术,完全实现单波长紫外冷光源照明,有效消除热效应,非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机系统结构紧凑,方便移动,采用触摸屏控制操作,完全有效安全控制自我曝光室。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机系统的LED紫外光源寿命高达1万小时,非常可靠而耐用,不需要日常维护,非常方便使用。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机主要技术特点
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机对准工作台:
  
  对准精度高,漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平,找平力小,延长掩模版使用寿命。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机曝光系统:
  
  采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机分离视场显微镜:
  
  在X、Y方面进行大范围扫描观察,可进行单视场或双视场切换,提高对准效率和套准精度,同时兼容CCD成像显示功能。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机电气控制:
  
  采用可编程控制器(PLC)、LCD显示屏,操作方便,汞灯电源易于触发,可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造,气动元件采用SMC的产品,提高了设备的稳定性、可靠性,同时提供个性化服务。
  
  

 
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