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  • 美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的最大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
  • 快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。
  • 快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。
  • 法国RTP系列的快速退火炉由法国Semco公司专业开发制造,法国工艺保障。温度均匀度≤1%,处理的Z大尺寸可以达到300mm,Z高温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4路进气,可以用到的气体包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
  • 退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛Z大尺寸为直径4英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。焚化炉配有一个管状石英反应室,因此可兼容处理Z大长度为150毫米的3D样片。
  • SEMCOJETLIGHT50系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛Z大尺寸为直径2英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。焚化炉配有一个管状石英反应室,因此可兼容处理Z大长度为150毫米的3D样片。

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