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快速退火炉RTP

型    号:Solaris 100 /150/200
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快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。

快速退火炉RTP产品概述:

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的最大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2O2,N2H2,ArH2

基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序,每套程序可以支持高达100个步骤的设定,带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件,与微软Windows操作系统兼容。通过该软件,通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。

 

技术规格:

- 温度:1200摄氏度;

- 升温速率:150摄氏度/秒;

- 温控均匀性:±2.5℃设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部区域加热;

- 处理时间:0。1秒至无限时间;

- 灯管数量及功率:13支,

- 腔体冷却:风冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多6 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

产品相关关键字: 快速退火炉 高温退火炉

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