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真空退火炉Solaris Eclipse

型    号:Solaris Eclipse
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快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛最大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。

真空退火炉Solaris Eclipse产品概述:

 

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的最大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2,O2,N2H2ArH2

- 处理时间:0。1秒至无限时间;

- 灯管数量及功率:13支,

- 腔体冷却:风冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多6 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

应用领域:

快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

扩散 (Diffusion);

化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

离子注入后退火 (Implant Annealing);

电极合金化 (Contact Alloying);

晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

 

产品相关关键字: 真空退火炉 快速退火炉

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