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快速退火炉

型    号:Solaris 150UV
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美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的最大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。

快速退火炉产品概述:

基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序,每套程序可以支持高达100个步骤的设定,带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件,与微软Windows操作系统兼容。通过该软件,通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。

 

技术规格:

- 温度:1200摄氏度;

- 升温速率:150摄氏度/秒;

- 温控均匀性:±2.5℃设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部区域加热;

- 处理时间:0.1秒至无限时间;

- 灯管数量及功率:13支,

- 腔体冷却:风冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多6 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

型号

Solaris 100

Solaris 150

Solaris 150UV

Solaris 200

Solaris Eclipse

处理最大样品尺寸

100mm

150mm

150mm

200mm

200mm

温度()

室温~1200/s

室温~1200/s

室温~1200/s

室温~1200/s

室温~1200/s

工艺气体

1~4

1~6

1~6

1~6

 

红外卤素灯

13

21

 

28

 

红外卤素灯冷却方式

风冷

风冷

风冷

风冷

风冷

温度控制

PID数控

PID数控

PID数控

PID数控

PID数控

温度精度

±2

±2

±2

±2

±2

热电偶

K型热电偶

K型热电偶

K型热电偶

K型热电偶

K型热电偶

臭氧功能

 

 

有,蚀刻速率> 25-50A /min

 

 

机器外观

台式机

台式机

台式机

台式机

台式机

 

应用领域:

快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

扩散 (Diffusion);

化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

离子注入后退火 (Implant Annealing);

电极合金化 (Contact Alloying);

晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

产品相关关键字: 快速退火炉 高温退火炉

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