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等离子刻蚀机产品概述：

型号：反应离子刻蚀机PlasmaStar 200/200RIE

产地： 美国

品牌： Axic

环球供应，本地服务！MYCRO专业为您提供实验室RIE反应离子刻蚀机设备，*的技术服务及售后，MYCRO值得您的的信赖！

技术规格：

型号	PlasmaStar 100	PlasmaStar 100RIE	海南七星彩论坛PlasmaStar 200	PlasmaStar 200RIE
舱体尺寸	直径254×深度356mm	直径200×深度280mm	宽305×高305×深406mm	宽305 ×高200×深406mm
舱体材质	标配为阳极氧化铝舱体
常用气体	空气，氧气，氢气，氩气，氮气，CF4，SF6等和其他混合气体
气路控制	标配2路MFC，PlasmaStar 100最多可选配4路，		标配2路MFC，PlasmaStar 200最多可选配5路；
控制系统	电阻触摸屏操作界面
程序控制	PC触屏控制，可编程序，无线存储数据
射频频率	13.56 MHz
射频功率	0~600W瓦之间距连续可调，自动匹配		0~1000W瓦之间距连续可调，自动匹配
电极设计	标准圆柱形笼式电极；		标准圆柱形笼式电极；可选交替多层托盘电极；可选RIE平面处理水冷平板电极
设备尺寸	宽800 x 深850 x 高525mm；		宽1033 x 深850 x 高635mm；

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